什么是离子镀?真空镀膜中离子镀和普通离子镀有什么却别呢?下面小编就来介绍下真空镀膜加工的分类之离子镀。

蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是D.麦托克斯于1963年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。

一种离子镀系统是将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体(如氩)以产生辉光放电。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基片或真空室壁表面。

电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百～几千电子伏)和氩离子对基片的溅射清洗作用，使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发(高沉积速率)与溅射(良好的膜层附着力)工艺的特点，并有很好的绕射性，可为形状复杂的工件镀膜。