真空镀膜

真空镀膜主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,　靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化, 造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow

光学镀膜

无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉;另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。

真空镀膜和光学镀膜区别

1、真空镀膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

最早的是光控测试，现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。